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MiniLab-WCF晶圓燒成爐THERMOCERA

簡要描述:MiniLab-WCF晶圓燒成爐THERMOCERA
MiniLab-WCF晶圓燒成爐,退火爐,真空爐,氣氛爐,ANNEAL晶圓退火設(shè)備,TCF-C500超高溫小型實驗反應(yīng)釜,TVF-110小型立式管式爐

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2023-08-16
  • 訪  問  量:640
詳情介紹

MiniLab-WCF晶圓燒成爐THERMOCERA

MiniLab-WCF晶圓燒成爐THERMOCERA

MiniLab-WCF晶圓燒成爐,退火爐,真空爐,氣氛爐,ANNEAL晶圓退火設(shè)備,TCF-C500超高溫小型實驗反應(yīng)釜,TVF-110小型立式管式爐

產(chǎn)品介紹

MiniLab-WCF晶圓燒成爐

超高溫晶圓退火爐Max2000

兼容各種工藝環(huán)境,

可小規(guī)模生產(chǎn)的多氣氛晶圓退火設(shè)備

采用C/C復(fù)合材料、SiC3涂層、TiC3涂層加熱器

溫度2000

提高安全性和可操作性 晶圓退火專用超高溫多氣氛爐

可用于從新材料和材料、半導(dǎo)體和電子零件的研發(fā)到小規(guī)模生產(chǎn)的廣泛應(yīng)用。

特征

3種爐加熱器/保溫材料擴大了碳爐的應(yīng)用范圍。

C/C復(fù)合加熱器

SiC3(碳化硅)涂層加熱器

TiC3(碳化鈦)涂層加熱器

工作溫度2000

C/C復(fù)合加熱器

TiC3涂層加熱器

SiC3涂層加熱器

PLC半自動操作(真空/吹掃→排氣)

通過觸摸屏 HMI 進(jìn)行操作

*也可全自動操作(需咨詢)

爐加熱范圍

Φ4英寸?Φ8英寸

單片式或多級盒式(5片)批量式

有很多選擇

爐壓自動調(diào)節(jié)(APC控制)

用于測量爐內(nèi)樣品溫度的附加熱電偶

用于爐內(nèi)測量的附加前視口 + 輻射溫度計

坩堝旋轉(zhuǎn)

全自動控制

通訊功能(使用溫控器功能)或SECS/GEM通訊

ANNEAL晶圓退火設(shè)備

晶圓退火設(shè)備Max1000

Φ4英寸至Φ6英寸基板

高精度APC自動壓力控制

惰性氣體/反應(yīng)氣體引入(MFC x最多3個系統(tǒng))

高均勻性快速加熱高真空(<5×10-7 mbar)專用晶圓退火機

采用鹵素?zé)簟?/span>C/C復(fù)合材料、SiC涂層加熱器

ANNEAL 晶圓退火機是一款專用晶圓退火機,可在加熱臺上均勻、清潔的環(huán)境中加熱 4 英寸至 6 英寸的基板,該加熱臺配備 3 種加熱器,可根據(jù)工藝氣氛進(jìn)行選擇。通過高精度電容壓力計對MFC進(jìn)行PID回路控制,實現(xiàn)過程中的高精度、恒壓點火。

特征

3種加熱器材料

鹵素?zé)艏訜崞鳎?/span>Max600℃)

C/C復(fù)合加熱器(Max1000℃)

SiC涂層加熱器(1000℃)

高精度壓力控制(APC控制)

精密 0.1Torr FS 電容壓力計

MFC x 最多 3

高精度寬量程表10-91000mbar

PLC自動運行

通過 7" 觸摸屏 HMI 進(jìn)行操作

觸摸屏上所有操作集中管理

包含適用于 Windows PC IntelliLink 的遠(yuǎn)程管理軟件

極限壓力

<5×10-7毫巴

有很多選擇

大氣壓力控制套件(*真空退火標(biāo)準(zhǔn))

干式渦旋泵

基材支架

用于面內(nèi)溫度測量的附加熱電偶

H2氣體稀釋模塊

TCF-C500超高溫小型實驗反應(yīng)釜

超高溫小型實驗爐Max2900

結(jié)構(gòu)緊湊、節(jié)省空間、節(jié)能!用于R&D新材料開發(fā)、半導(dǎo)體、電子零件、燃料電池、太陽能電池等的高性能超高溫實驗反應(yīng)堆。支持先進(jìn)基礎(chǔ)技術(shù)開發(fā)部門的各種應(yīng)用。

TVF-110小型立式管式爐

小型立式實驗爐Max1200

成本低 lowest配置(手動控制) 可用作管式爐、擴散爐、熱CVD

基座手動升降式立式實驗爐,適用于從小片到3英寸晶圓的小基板 低成本

立式爐,適合基礎(chǔ)實驗,非常適合大學(xué)和企業(yè)實驗室的基礎(chǔ)實驗

退火爐.png

退火爐1.png退火爐3.png



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