SEMILAB薄膜厚度和電阻率測量裝置WMT
簡要描述:SEMILAB薄膜厚度和電阻率測量裝置WMT光致發(fā)光PLl-101/A, PLI-103/A,壽命測量裝置WML,WLL,薄膜厚度和電阻率測量裝置WMT,WLT,晶體形狀測量裝置TTR-300,發(fā)射極片電阻測量裝置CMS,CLS,激光橢圓儀SE-100IL,LE-100IL
- 產(chǎn)品型號:
- 廠商性質(zhì):代理商
- 更新時間:2023-03-27
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SEMILAB薄膜厚度和電阻率測量裝置WMT
SEMILAB薄膜厚度和電阻率測量裝置WMT
光致發(fā)光PLl-101/A, PLI-103/A,壽命測量裝置WML,WLL,薄膜厚度和電阻率測量裝置WMT,WLT,晶體形狀測量裝置TTR-300,發(fā)射極片電阻測量裝置CMS,CLS,激光橢圓儀SE-100IL,LE-100IL
產(chǎn)品介紹
用于晶體和電池檢測的光致發(fā)光設備快速可靠的在線光致發(fā)光設備,用于在從切割晶體到成品電池的所有加工階段對晶體和電池質(zhì)量進行無損測量。可以控制整個制造階段的材料質(zhì)量。高質(zhì)量的晶體可生產(chǎn)出高效的電池,從而降低制造成本。
對厚度、TTV 和電阻率進行高速、非接觸式評估。厚度和電阻率是光伏應用中硅片的關鍵質(zhì)量控制參數(shù)。WLT 型號(WLT-1、WLT-3、WLT-5)在線薄膜厚度和電阻率測量系統(tǒng)提供 1-5 點厚度和 1 點電阻率,用于全自動晶圓生產(chǎn)線的在線質(zhì)量控制滿足要求的高吞吐量。WMT 型號(WMT-1、WMT-3)薄膜厚度和電阻率測量系統(tǒng)允許在不停止傳送帶的情況下進行晶體測量(“動態(tài)"測量)。
兩側(cè)的厚度、電阻率和鋸痕都可以用這個太陽能硅片輪廓測量系統(tǒng)測量。
發(fā)射極擴散后,發(fā)射極薄層電阻是 PV 應用中硅晶片的關鍵質(zhì)量控制參數(shù)。
CLS 型號(CLS-1A、CLS-3A、CLS-5A)的發(fā)射極薄層電阻測量系統(tǒng)以高吞吐量測量 1 到 5 個點的薄層電阻,以滿足全自動電池生產(chǎn)線中在線質(zhì)量控制的要求。
CMS 型號(CMS-1A、CMS-3A)的發(fā)射極薄層電阻測量系統(tǒng)允許在不停止傳送帶的情況下測量晶圓(“On the Fly"測量)。因此,它實現(xiàn)了高通量,以滿足電池全自動化生產(chǎn)線中在線質(zhì)量控制的要求。
LE-100IL:用于 PV 晶體涂層測量的在線激光橢圓儀